電子行業(yè)解決方案：       

電子行業(yè)一般可以分為電子元件及部件、印刷線路板、電真空器件、半導(dǎo)體制造(半導(dǎo)體分立器件及集成電路)、平板顯示器和電子終端產(chǎn)品裝配等幾大主要部分。其中，平板顯示器TFT-LCD 生產(chǎn)過程中要使用多種化學(xué)試劑，線路板生產(chǎn)、TFT-LCD等生產(chǎn)排放的廢氣分為酸性氣體、堿性氣體、有毒氣體等。主要產(chǎn)生于基板清洗、化學(xué)氣相沉積（CVD）、刻蝕、剝離（去膠）、涂取向膜等主要工藝過程。

針對(duì)上述生產(chǎn)工藝中產(chǎn)生的鹽酸、硫酸、氫氟酸酸霧及氨氣等通常采用中和吸收方法；針對(duì)HCN、硝酸酸霧/NOx、其他堿性廢氣，通常采用中和吸收+氧化還原+中和吸收組合方法。

中和吸收技術(shù)：

工藝流程：

首先，酸性（堿性）廢氣經(jīng)過車間排氣風(fēng)機(jī)引至入口靜壓箱；然后，進(jìn)入中和吸收塔；再次，通過噴淋循環(huán)泵將中和吸收液送至填料塔，酸堿廢氣在噴淋及填料區(qū)域?qū)崿F(xiàn)中和反應(yīng)；最后，通過引風(fēng)機(jī)將處理后尾氣排入大氣。

技術(shù)特點(diǎn)：

A：工藝成熟、凈化效率高；

B：采用進(jìn)口吸收填料，空塔風(fēng)更速大、直徑更小，減小占地面積；

C：采用進(jìn)口吸收填料，液氣比更小、吸收液用量小、運(yùn)行能耗低；

D：采用進(jìn)口除霧填料，除霧效率高、為后續(xù)干式處理系統(tǒng)創(chuàng)造條件；

E：自動(dòng)化程度高，操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便。

應(yīng)用領(lǐng)域：

主要用于處理HF、HCL、H2SO4及NH2等廢氣處理。

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、電子、線路板、電鍍、珠寶、鋼制品制造、紡織、冶金等行業(yè)。

中和+氧化還原+中和吸收技術(shù)

工藝流程：

首先，酸性（堿性）廢氣經(jīng)過車間排氣風(fēng)機(jī)引至入口靜壓箱；然后，進(jìn)入中和、氧化還原吸收塔；再次，通過噴淋循環(huán)泵將中和、氧化還原吸收液送至填料塔，酸堿廢氣在噴淋及填料區(qū)域?qū)崿F(xiàn)中和、氧化還原反應(yīng)；最后，進(jìn)入二級(jí)中和吸收塔，通過引風(fēng)機(jī)將處理后尾氣排入大氣。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

A：組合工藝成熟、凈化效率高；自動(dòng)化程度高，操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便；

B：采用進(jìn)口吸收填料，空塔風(fēng)更速大、直徑更小，減小占地面積；

C：采用進(jìn)口吸收填料，液氣比更小、吸收液用量小、運(yùn)行能耗低；

D：采用進(jìn)口除霧填料，除霧效率高、為后續(xù)干式處理系統(tǒng)創(chuàng)造條件；

E：采用自行研究配制的強(qiáng)氧化還原劑，有效解決黃煙、惡臭異味問題。

應(yīng)用領(lǐng)域：

主要用于處理HNO2及H2S等溶解性吸收效果不好的酸性廢氣處理。

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、電子、線路板、電鍍、珠寶、化工、制藥、塑膠、金屬制品。